Naam:
8-inch OP Kwartsring
Functie & Toepassing:
Fungeert als beschermend component om diverse besmettingen tijdens het etsproces te voorkomen, en zorgt voor afsluiting en bescherming van de kamer. Het wordt toegepast in de etsprocessen voor waferproductie, dat zijn lage-temperatuurprocessen.
Prestatie-eisen:
Hoge temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid, uitstekende thermische stabiliteit en een laag gehalte onzuiverheden.
Nr. 5177 Qianghua Westweg, Dongqianstraat, Nanxun-district, Huzhou-stad, provincie Zhejiang
+86-572-3032373
+86-572-3033016
DeOP Kwarts Ring is een hoogprecisiecomponent vervaardigd uit ultrazuiver gesmolten silica, ontworpen om betrouwbare ondersteuning, afdichting of afstand te bieden binnen halfgeleider- en fotovoltaïsche verwerkingssystemen. Bekend om zijn uitzonderlijke thermische stabiliteit, lage uitzetting en uitstekende chemische bestendigheid, weerstaat deze ring zware verwerkingsomgevingen en herhaalde thermische cyclus.
De precieze afmetingen zorgen voor optimale pasvorm en uitlijning in ovenassemblages, wat bijdraagt aan een uniforme gasstroom en temperatuurregeling tijdens processen zoals CVD, diffusie en uitgloeien. De gesmolten silica-glazen ring helpt een verontreinigingsvrije omgeving te behouden, wat cruciaal is voor het bereiken van consistente waferkwaliteit en hoge procesopbrengsten.
OP (ondoorzichtige) kwartsringen zijn gespecialiseerde componenten die zijn ontworpen voor hoogtemperatuur-halfgeleiderprocessen waarbij thermische isolatie en verminderde stralingseffecten cruciaal zijn. In vergelijking met standaard kwartsringen bieden OP kwartsringen een hogere dekking, betere thermische afscherming en lagere lichttransmissie, wat helpt om stabiele ovencondities te behouden en waferbesmetting te minimaliseren.
Standaard kwartsringen zijn chemisch zuiver en thermisch stabiel, maar laten meer thermische straling door, en zijn beter geschikt voor algemene toepassingen waarbij isolatie minder kritisch is. De keuze tussen OP- en standaard kwartsringen hangt af van procesvereisten, het ontwerp van de oven en de behoefte aan thermische uniformiteit en waferbescherming.
Belangrijkste punten: