Horizontale kwartsboot
Naam:
8-inch horizontale kwartswafelboot
Functie & Toepassing:
De horizontale kwartsboot wordt horizontaal in de kwartsbuis geplaatst en dient als drager voor wafertransport, -hantering en -verwerking. Wafers worden op de kwartsboot geplaatst en vervolgens in de ovenbuis geladen voor batchproductie. Het wordt toegepast in diffusie-, oxidatie- en CVD-afzettingsprocessen bij de productie van wafers, wat hogetemperatuurprocessen zijn.
Prestatie-eisen:
Hoge temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid, uitstekende thermische stabiliteit, hoge optische transparantie en een laag onzuiverheidsgehalte.
-
Nr. 5177 Qianghua Westweg, Dongqianstraat, Nanxun-district, Huzhou-stad, provincie Zhejiang
-
+86-572-3032373
+86-572-3033016
DeHorizontale kwartsboot is speciaal gebouwd voor veilige en precieze hantering van wafers in horizontale ovensystemen, en wordt veel gebruikt voor oxidatie-, diffusie- en annealingprocessen in de productie van 200 mm halfgeleiderwafers. Gemaakt van hoogzuiver gesmolten kwarts, levert het uitstekende thermische stabiliteit, corrosiebestendigheid en dimensionale nauwkeurigheid.
Het horizontale ontwerp zorgt voor uniforme uitlijning en afstand tussen de wafers langs de as van de ovenbuis, waardoor de gasstromingsdynamiek en een consistente thermische behandeling over elke wafer mogelijk is. De stijve, laag-verontreinigingsstructuur minimaliseert vervorming bij hoge temperaturen, helpt de procesintegriteit te behouden en de deeltjesvorming te verminderen.
Gebruik van horizontale kwartsboten in diffusie-, oxidatie- en CVD-toepassingen
Horizontale kwartsboten zijn essentiële gereedschappen in de halfgeleiderproductie, ontworpen om wafers veilig vast te houden en te vervoeren tijdens hoogtemperatuurprocessen zoals diffusie, oxidatie en CVD-depositie. Gemaakt van hoogzuivere gesmolten kwarts, zorgen deze boten voor minimale verontreiniging en behouden ze de integriteit van gevoelige wafers gedurende het hele proces.
De horizontale oriëntatie zorgt ervoor dat wafers plat liggen, wat een gelijkmatige warmteverdeling en consistente blootstelling aan procesgassen bevordert. Dit ontwerp helpt temperatuurgradiënten te verminderen, zorgt voor gelijkmatige doping of oxidatie en verbetert de algehele procesopbrengst. Gladde, onzuivere oppervlakken minimaliseren deeltjesvorming, ondersteunen cleanroom-normen en beschermen kwetsbare waferoppervlakken.
Duurzame en thermisch stabiele, hoogwaardige horizontale kwartsboten weerstaan herhaalde thermische cyclus zonder kromtrekken of barsten. Door de juiste horizontale kwartsboot te kiezen, kunnen halfgeleiderfabrieken en onderzoeksfaciliteiten de uniformiteit van de wafer optimaliseren, de doorvoer maximaliseren en strikte procescontrole handhaven bij diffusie-, oxidatie- en CVD-toepassingen.
