Kwartsbases

Productdetails

Naam:

6-inch kwartsbasis

Functie & Toepassing:

De kwartsbasis ondersteunt een kwartsboot bovenop en wordt gebruikt in waferproductieprocessen zoals diffusie, oxidatie, CVD-depositie en annealing. Het verspreidt de gasstroom om stabiele gasblootstelling aan siliciumwafers in de bovenste kwartsboot te garanderen. Dit is een proces bij hoge temperaturen.

Prestatie-eisen:

Hoge temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid, uitstekende thermische stabiliteit, gezandstraald oppervlak en een laag onzuiverheidsgehalte.

Neem contact met ons op
  • Nr. 5177 Qianghua Westweg, Dongqianstraat, Nanxun-district, Huzhou-stad, provincie Zhejiang

  • +86-572-3032373

    +86-572-3033016

Meer over producten

Verticale oven kwartsvoetstukkenzijn precisie-engineered ondersteuningscomponenten die zijn ontworpen om kwartsboten veilig vast te houden tijdens de productie van hoogtemperatuur-halfgeleiderwafers zoals diffusie, oxidatie, CVD-depositie en gloeien. Deze voetstukken, gemaakt van ultrazuiver gesmolten kwarts, bieden uitzonderlijke thermische stabiliteit en corrosiebestendigheid die nodig zijn om procesintegriteit in verticale ovenomgevingen te behouden.

Het zandgestraalde oppervlak bevordert gelijkmatige gasverspreiding, waardoor stabiele en gelijkmatige gasblootstelling aan siliciumwafers binnen de kwartsboot wordt gegarandeerd. Met een laag onzuiverheidsgehalte en een robuuste structuur die bestand is tegen herhaalde thermische cyclus, dragen deze voetstukken bij aan een verontreinigingsvrije verwerking en consistent hoge opbrengsten in geavanceerde halfgeleiderfabricage.

Vergelijking van verticale versus horizontale kwartsvoetstukken van ovenoven

1. Structureel ontwerp

Verticale ovenvoetstukken:Ontworpen om wafers verticaal te ondersteunen, zodat er een uniforme verwarming in hoge ovenkamers wordt gegarandeerd.

Horizontale ovenvoetstukken:Gebouwd voor horizontaal geladen wafers, met nadruk op stabiliteit tijdens laterale wafertransfer.

2. Warmteverdeling

Verticaal:Bevordert een gelijkmatige warmtestroom van boven naar beneden, waardoor temperatuurgradiënten over wafers worden verminderd.

Horizontaal:Richt zich op het minimaliseren van laterale temperatuurvariaties, cruciaal voor oxidatie- en diffusieprocessen.

3. Ruimte en capaciteit

Verticale voetstukken:Ondersteuning van een hogere waferdichtheid, geschikt voor grootschalige halfgeleiderproductie.

Horizontale voetstukken:Meestal lagere wafercapaciteit, maar het is makkelijker toegankelijk voor kleinere batchverwerking.

4. Onderhoud en duurzaamheid

Verticaal:Vereist nauwkeurige uitlijning; Schoonmaken is cruciaal om besmetting over hoge waferstapels te voorkomen.

Horizontaal:Makkelijker te hanteren en te vervangen, maar mogelijk meer blootgesteld aan deeltjesophoping.

5. Geschiktheid van de toepassing

Verticale ovens:Gebruikelijk in geavanceerde halfgeleiderfabrieken waar uniformiteit en doorvoer cruciaal zijn.

Horizontale ovens:Vaak gebruikt voor R&D, pilotruns of gespecialiseerde verwerkingsstappen.

Vraag een offerte aan

After 32 years of development and accumulation of technology.

we are committed to serving quality.