Baffle

Productdetails

Naam:

12-inch kwartsbaffel

Functie & Toepassing:

Door warmte-energie te reflecteren en te diffunderen, helpt de kwarts-baffel de warmte gelijkmatiger te verdelen en beschermt wafers effectief tegen directe straling en lokale oververhitting in hogetemperatuurovens. Het wordt toegepast in diffusie-, oxidatie- en CVD-afzettingsprocessen bij de productie van wafers, wat hogetemperatuurprocessen zijn.

Prestatie-eisen:

Hoge temperatuurbestendigheid, corrosiebestendigheid, uitstekende thermische stabiliteit, gezandstraalde oppervlaktebehandeling en een laag onzuiverheidsgehalte.

Neem contact met ons op
  • Nr. 5177 Qianghua Westweg, Dongqianstraat, Nanxun-district, Huzhou-stad, provincie Zhejiang

  • +86-572-3032373

    +86-572-3033016

Meer over producten

Dekwarts-baffle met gaten is een precisie-ontworpen component die is ontworpen om de gasstroom en temperatuuruniformiteit binnen halfgeleider- en fotovoltaïsche ovensystemen te optimaliseren. Gemaakt van hoogzuiver gesmolten kwarts, biedt het uitstekende thermische schokbestendigheid, chemische inertie en structurele stabiliteit bij verhoogde temperaturen.

Strategisch geplaatst in reactiebuizen of kamers, helpt de baffle om procesgassen gelijkmatig te verdelen, turbulentie te verminderen en deeltjesbesmetting te minimaliseren. Het robuuste ontwerp weerstaat herhaalde thermische cyclus, waardoor consistente prestaties behouden blijven tijdens diffusie-, oxidatie-, LPCVD- en annealingprocessen.

Functie van de gaten op de kwarts-baffles

De gaten op een kwartsbaffel vervullen verschillende cruciale functies bij de verwerking van halfgeleiderwafers:

  • Gelijkmatige gasdistributie –Ze maken het mogelijk dat procesgassen (zoals zuurstof, stikstof of dopantergassen) gelijkmatig over de wafers stromen, waardoor ongelijkmatige blootstelling wordt voorkomen.
  • Thermische uniformiteit –Door gecontroleerde gasstroom toe te staan, helpen de gaten een stabiele temperatuur over alle waferoppervlakken te behouden, waardoor hotspots worden verminderd.
  • Besmettingscontrole –De gaten helpen terugstroming of turbulentie te voorkomen die deeltjes naar het waferoppervlak kunnen brengen, wat de reiniging van het proces verbetert.
  • Verbeterde procesefficiëntie –Goed ontworpen gaten optimaliseren gasmenging en diffusie, wat leidt tot consistentere filmafzetting of oxidatie.

Kortom, de gaten transformeren de baffle van een eenvoudige barrière in een precisie-stroomregelingsapparaat dat zorgt voor uniforme en betrouwbare waferverwerking.

Vraag een offerte aan

After 32 years of development and accumulation of technology.

we are committed to serving quality.